Rasterkraftmikroskopie mit CO-Spitzen: Abbildungsmechanismen auf Metallatomen und Halogenbindungen

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2019

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http://dx.doi.org/10.22029/jlupub-9816

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Diese Dissertation behandelt die Halogenbindung zwischen adsorbierten Halogenaromaten. Im Detail wurde das Bindungsverhalten von 3-Bromo-4´-iodo-p-terphenyl und 4-Bromo-3´-iodo-p-terphenyl mit einem Tieftemperatur-Rasterkraftmikroskop auf Cu(111)- und Au(111)-Oberfächen untersucht. Auf Kupfer wurde eine unerwartete Bevorzugung von Bindungen zwischen den Bromgruppen festgestellt. Mit der chemical-bond-imaging-Technik konnte die Bindungsgeometrie ermittelt werden und eine signifikante Abweichung von der optimalen Typ II-Halogenbindung festgestellt werden. Im Kontrast dazu wurde auf Au(111) eine nahezu optimale Typ II Geometrie und eine Bevorzugung von Iod-Iod-Bindungen beobachtet. Mit Vergleichsmessungen an einem Strukturisomer konnte ein sterischer Einfluss als Ursache ausgeschlossen werden. In einer weiteren Studie wurde darüber hinaus der Einfluss der fexiblen CO-Spitze auf das Kontrastverhalten von AFM-Messungen mit atomarer Aufösung untersucht. Auf Cu(111), Au(111) und Ag(111) wurde eine signifikante laterale Verschiebung der scheinbaren Atompositionen registriert, die einen großen Einfluss auf die positionsgetreue Bestimmung molekularer Adsorptionspositionen besitzt.

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