Einfluss von Grenzflächen auf die Phasenbreite von nichtstöchiometrischen Verbindungen am Beispiel des Ag2+deltaS

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In Rahmen der vorliegenden Arbeit wurde die Größe der Phasenbreite nasschemisch abgeschiedener dünner Silbersulfidschichten in Abhängigkeit der Schichtdicke mit Hilfe der festkörperelektrochemischen Zellen Ag|AgI|Ag(2+delta)S und Ag|AgI| Ag(2+delta)S |Au und der Methode der coulometrischen Festphasen-Titration untersucht. Bei Erniedrigung der Schichtdicke konnte eine Steigerung der Phasenbreite für reine Silbersulfid-Dünnschichten um bis zu 100 % und für die Dünnschichten mit zusätzlicher Goldschicht eine um mehr als eine Größenordnung erhöhte Phasenbreite im Vergleich zum Volumenmaterial ermittelt werden. Des Weiteren wurde die Möglichkeit des reversiblen elektrochemischen Legierens der Goldschicht in der Modellzelle Ag|AgI| Ag(2+delta)S |Au mit Hilfe von Ex-situ- (Lichtmikroskop, Röntgendiffraktometrie und Kontaktwinkelmessung) und In-situ-Methoden (Mikromessstand und Energiedispersive Röntgenspektroskopie) analysiert. Die Homogenität der Silberverteilung in der Goldschicht wurde mittels Sekundärionenmassenspektrometrie und Röntgenphotoelektronenspektroskopie charakterisiert. Das reversible elektrochemische Legieren konnte durch alle Charakterisierungsmethoden bestätigt werden.

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