Electrochromic switching of tungsten oxide films grown by reactive ion-beam sputter deposition

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dc.contributor.authorGies, Mario
dc.contributor.authorMichel, Fabian
dc.contributor.authorLupó, Christian
dc.contributor.authorSchlettwein, Derck
dc.contributor.authorBecker, Martin
dc.contributor.authorPolity, Angelika
dc.date.accessioned2022-08-25T08:53:51Z
dc.date.available2022-08-25T08:53:51Z
dc.date.issued2021
dc.identifier.urihttps://jlupub.ub.uni-giessen.de//handle/jlupub/6994
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.22029/jlupub-6445
dc.language.isoen
dc.rightsNamensnennung 4.0 International
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subject.ddcddc:530
dc.titleElectrochromic switching of tungsten oxide films grown by reactive ion-beam sputter deposition
dc.typearticle
local.affiliationFB 07 - Mathematik und Informatik, Physik, Geographie
local.source.epage628
local.source.journaltitleJournal of materials science
local.source.spage615
local.source.urihttps://doi.org/10.1007/s10853-020-05321-y
local.source.volume56

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