Elektrische und optische Charakterisierung von Galliumnitrid

dc.contributor.authorMeister, Dirk
dc.date.accessioned2023-02-09T15:31:58Z
dc.date.available2001-07-15T22:00:00Z
dc.date.available2023-02-09T15:31:58Z
dc.date.issued2001
dc.description.abstractBei der elektrischen Charakterisierung der untersuchten LPCVD-n-GaN-Schichten stand die Klärung der Herkunft der hohen residuärenDotierung im Vordergrund. Mit Hilfe von SIMS-Untersuchungen wurde gezeigt, daß in allen untersuchten Schichten hohe Konzentrationenvon Sauerstoff und Silizium vorkommen. Dabei fällt auf, daß der Grad der Sauerstoffverunreinigung von der Oberfläche zur Grenzschichtzwischen dem Substrat und der Halbleiterschicht stark ansteigt und dort einen 200 nm bis 4 [mikro]m dicken, hoch leitenden Kanal bildet,während die Verunreinigung durch Silizium über die ganze Schicht konstant bleibt. Bei Hall-Messungen an diesen Schichten wird imVergleich zu der realen Dichte an der Oberfläche immer eine höhere Trägerdichte für die Probe gemessen. Begründet ist dies in derintegralen Bestimmung der Ladungsträgerkonzentration über die ganze Schicht bei Hall-Effekt-Messungen. Abhilfe schafft hier dassogenannte 'Zwei-Schichten-Modell'. Damit ist es möglich, aus den integralen Hall-Daten die effektive Ladungsträgerdichte an derOberfläche zu bestimmen. Außerdem kann mit dem Modell die Bindungsenergie des Donators bestimmt werden. Aus den in dieser Arbeitbetrachteten Hall-Messungen ergibt sich für den Donator in den untersuchten Schichten eine Bindungsenergie von 35±3 meV. Anhand derSIMS-Profile ist diese Bindungsenergie dem Sauerstoffdonator zuzuordnen. Damit ist es gelungen, Sauerstoff eindeutig als denverantwortlichen Donator für die residuäre Dotierung in n-GaN zu identifizieren. Der mit Hilfe der Hall-Meesungen identifizierte metallisch leitende Kanal am Interface konnte ferner mit Photolumineszenzmessungen,Kathodolumineszenz- sowie Raman-untersuchungen an den LPCVD-Proben eindeutig nachgewiesen werden. Ein weiterer Schwerpunkt ist die Untersuchung der Photoleitfähigkeit von p-GaN, insbesondere der Unterschied zwischen MOVPE- undMBE-Schichten. Beim Vergleich der Photolumineszenzspektren von MBE- und MOVPE-p-GaN zeigen sich deutliche Unterschiede. DieSpektren von MBE-Schichten weisen eine starke Lumineszenz bei 3.27 eV auf. Dieser Lumineszenz wird einem DAP-Übergang zwischendem Sauerstoffdonator mit 35 meV und dem Magnesiumakzeptor zugeordnet. Bei schwach p-dotierten MOVPE-Schichten beobachtetman ebenfalls diesen Übergang, der jedoch im Vergleich zur MBE deutlich schwächer ausfällt. Bei stark dotierten Schichten ist nur nocheine Lumineszenz bei 2.9 eV zu beobachten. Dieser Effekt erklärt sich mit der Selbstkompensation von MOVPE-Schichten bei starkerp-Dotierung. Dabei bildet sich 200 meV unterhalb des Leitungsbandes ein als Donator wirkender Stickstoff-Magnesiumkomplex aus. Beiden beobachteten Photostromtransienten für eine Zeitskala zwischen 5x10-5 und 1x10-3 s und einem Temperaturbereich von 200 bis 400 Kzeigt sich, daß sowohl bei MBE- als auch bei MOVPE-Proben der Transient aus zwei unterschiedlich schnellen Rekombinationskanälenbesteht.de_DE
dc.identifier.urihttp://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:hebis:26-opus-4618
dc.identifier.urihttps://jlupub.ub.uni-giessen.de//handle/jlupub/10096
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.22029/jlupub-9480
dc.language.isode_DEde_DE
dc.rightsIn Copyright*
dc.rights.urihttp://rightsstatements.org/page/InC/1.0/*
dc.subjectGalliumnitridde_DE
dc.subject.ddcddc:530de_DE
dc.titleElektrische und optische Charakterisierung von Galliumnitridde_DE
dc.typedoctoralThesisde_DE
dcterms.dateAccepted2001-07-13
local.affiliationFB 07 - Mathematik und Informatik, Physik, Geographiede_DE
local.opus.fachgebietPhysikde_DE
local.opus.id461
local.opus.instituteI. Physikalisches Institutde_DE
thesis.levelthesis.doctoralde_DE

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